Intel představil nejpokročilejší proces výroby čipů

Společnost Intel v minulých dnech představila několik průlomových technologií, které integrovala do svého nového 90nanometrového (nm) procesu. Intel už tento výrobní proces použil při výrobě křemíkových struktur a paměťových čipů, jejichž parametry překonaly dosavadní rekordy. Příští rok společnost nasadí tento proces v hromadné výrobě s použitím 300 mm plátů.

Nový 90 nm (nanometr je miliardtina metru) proces používá výkonnější tranzistory s nižší spotřebou energie, technologii napnutého křemíku, vysokorychlostní měděné spoje a nový dielektrický materiál s nízkou konstantou. Je to vůbec poprvé, kdy budou všechny tyto technologie integrovány v jediném výrobním procesu.

Zdroj: Intel


Témata: Aktuality, Intel